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SMEE亮相第21届工博会

2019917日,第21届中国国际工业博览会在国家会展中心(上海)隆重开幕,众多行业知名企业竞相展示了尖端技术和先进产品。在科技创新展区(6.2H-中心展区)及新一代信息技术与应用展区5.2H-E100),SMEE分别展出了应用于IC前道制造的高端扫描投影光刻机及应用于平板显示TFT电路制造的高分辨率6代小Mask投影光刻机。诚邀您亲临现场,与我们共享这场工业领域的科技盛宴!



IC前道扫描投影光刻机展品(6.2H-中心展区)



高分辨率6代小Mask投影光刻机展品(5.2H-E100



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